新诺科技是“数字化光刻技术”在世界范围内的开拓者，技术团队在二十年前从美国开始研发，是国际上最先采用TI 的投影芯片实现数字化光刻（无掩模曝光）的团队，拥有大量的原始专利技术。

2009 年底团队回到中山，2012年获得广东省创新团队的支持。截止2017年底，新诺科技已完成8个系列光刻设备的研发，广泛应用于半导体芯片封装、显示面板、印刷电路板的图形曝光。尤其是在印刷电路板生产领域，新诺的LDI 设备在过去3 年，在国内已经有超过100 多家用户，同时产品外销到美国，荷兰和新加坡等发达国家。